9月9日，中國工信部發布《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄》，其中，氟化氬光刻機（DUV）的亮相尤其引人關注。
《目錄》顯示，DUV光刻機為8nm以下制程，193nm的光源波長，可精細雕琢出小于65nm的圖案。業內人士指出，DUV光刻機的誕生，將為中國半導體制造業賦予了新的動力，是中國科技自主創新的重要標志，也預示著中國半導體制造業的強勢崛起。而DUV光刻機的推廣應用，不僅將提升中國半導體制造業的技術水平，還可極大增強自主創新能力，減少了對國外技術的依賴；經濟上，它將降低進口成本，提高國內芯片的自給率，增強我國在全球經濟中的競爭力。